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GalvanoTest 2000/3000 庫(kù)侖測(cè)厚儀

產(chǎn)品型號(hào):ElektroPhysik GalvanoTest 2000/3000

更新時(shí)間:2024-02-22

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介:

德國(guó)EPK GalvanoTest 庫(kù)侖測(cè)厚儀用于測(cè)量幾乎所有基體上的電鍍涂層厚度,如鋼鐵,有色金屬或絕緣材料基體。典型應(yīng)用包括鐵上鍍鎳,鐵上鍍鋅,銅上鍍錫,銅上鍍銀或環(huán)氧樹(shù)脂鍍銅。這種方法只除去幾乎看不到的一小塊面積,而不影響基體。庫(kù)侖法確保結(jié)果可靠,準(zhǔn)確。GalvanoTest使用簡(jiǎn)便,操作者不需要專(zhuān)業(yè)技能只需在實(shí)際測(cè)量發(fā)生之前很少的培訓(xùn)。庫(kù)侖原理是測(cè)量單鍍層或多鍍層的低成本方法。例如鐵上依次電鍍銅再鍍鎳再鍍鉻。

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德國(guó)EPK GalvanoTest2000/3000 庫(kù)侖測(cè)厚儀

 

德國(guó)EPK GalvanoTest 庫(kù)侖測(cè)厚儀用于測(cè)量幾乎所有基體上的電鍍涂層厚度,如鋼鐵,有色金屬或絕緣材料基體。典型應(yīng)用包括鐵上鍍鎳,鐵上鍍鋅,銅上鍍錫,銅上鍍銀或環(huán)氧樹(shù)脂鍍銅。這種方法只除去幾乎看不到的一小塊面積,而不影響基體。庫(kù)侖法確保結(jié)果可靠,準(zhǔn)確。GalvanoTest使用簡(jiǎn)便,操作者不需要專(zhuān)業(yè)技能只需在實(shí)際測(cè)量發(fā)生之前很少的培訓(xùn)。庫(kù)侖原理是測(cè)量單鍍層或多鍍層的低成本方法。例如鐵上依次電鍍銅再鍍鎳再鍍鉻。

根據(jù)法拉第定律的原理,GalvanoTest庫(kù)侖測(cè)厚儀對(duì)樣品特定區(qū)域進(jìn)行電解溶解。電解池裝滿用于選定鍍層/基體組合的特殊電解液。電解池放在測(cè)量樣品上。在電解池和測(cè)試樣品之間插入密封墊防止液體流出并同時(shí)確定除鍍面積,例如1mm2。儀器準(zhǔn)備使用并連接主機(jī)。現(xiàn)在,通過(guò)電解液利用電化學(xué)反應(yīng)溶解特定涂層區(qū)域。一旦溶解完成,特定的電位變化會(huì)自動(dòng)停止去鍍過(guò)程并在顯示屏上以μm或者mils顯示鍍層厚度。

兩個(gè)型號(hào)

GalvanoTest供應(yīng)兩個(gè)型號(hào):GalvanoTest2000是基礎(chǔ)型號(hào),無(wú)需其他任何附件測(cè)量各種涂層/基體組合?;谑褂梅奖愕脑O(shè)計(jì),該型號(hào)通常被推薦用于多層測(cè)量。

倘若用GalvanoTest 3000測(cè)量更方便。其測(cè)量支架集成電解泵,可全自動(dòng)移除和補(bǔ)充電解液,并且易于更換電解池,使電解液像填充物一樣可以大批量的用于去鍍處理。

可以購(gòu)買(mǎi)另外的電解池給不同的電解液用,在多層測(cè)量時(shí)快速切換。3000型的進(jìn)一步優(yōu)勢(shì):即使0.25mm2的小面積,也可以輕松測(cè)量沒(méi)用問(wèn)題。

 

GalvanoTest 庫(kù)侖測(cè)厚儀- 特點(diǎn)

• 測(cè)量幾乎所有電鍍涂層/基體組合

• 適用于單層和多層涂層

• 利用庫(kù)侖原理,符合DIN 50955和ISO 2177標(biāo)準(zhǔn)

 

GalvanoTest 庫(kù)侖測(cè)厚儀-應(yīng)用

• 測(cè)量幾乎所有基體上的電鍍涂層厚度

• 鐵上鍍鎳,鐵上鍍鋅,銅上鍍錫,銅上鍍銀或環(huán)氧樹(shù)脂鍍銅等

 

GalvanoTest 庫(kù)侖測(cè)厚儀-技術(shù)參數(shù)

GALVANOTEST 可以測(cè)量

2000

3000

可以測(cè)量70種以上鍍層/基體組合

可以測(cè)量平面、曲面上的鍍層

可以測(cè)量小零件、導(dǎo)線、線狀零件

預(yù)置10種金屬的測(cè)量參數(shù):Cr鉻、Ni鎳、Cu銅、黃銅、Zn鋅、Ag銀、Sn 錫、Pb鉛、Cd鎘、Au金(需提供樣品確定)

 

預(yù)置9種金屬的測(cè)量參數(shù):Cr鉻、Ni鎳、Cu銅、黃銅、Zn鋅、Ag銀、Sn 錫、Pb鉛、Cd鎘。

 

用戶可另設(shè)置8種金屬的測(cè)量參數(shù)

 

用戶可另設(shè)置1種金屬的測(cè)量參數(shù)

 

庫(kù)侖鍍層測(cè)厚儀測(cè)量機(jī)構(gòu):

 

 

帶循環(huán)泵

 

帶氣泵

 

庫(kù)侖鍍層測(cè)厚儀測(cè)量面積:

 

 

密封墊 8 mm2

 

密封墊 4 mm2

密封片 1 mm2

密封片 0.25 mm2(涂鍍層面積幾乎小得看不見(jiàn))

 

電解杯 0.25-16 mm2 (可選件)

庫(kù)侖鍍層測(cè)厚儀測(cè)量參數(shù)調(diào)整:

 

 

除鍍速度0.3-40 μm/分鐘可調(diào)

根據(jù)金屬和測(cè)量表面可直接調(diào)整系數(shù)

可用厚度標(biāo)準(zhǔn)樣板校準(zhǔn)

可調(diào)整終點(diǎn)電壓,以抗干擾,適應(yīng)鍍層/基體之間的合金

GALVANOTEST的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)

 

 

可存儲(chǔ)不同金屬測(cè)量參數(shù)的數(shù)目

10

18

可存儲(chǔ)的讀數(shù)和統(tǒng)計(jì)值

2000

2000

儀器斷電后可保持所有校準(zhǔn)值、讀數(shù)、統(tǒng)計(jì)值。

庫(kù)侖鍍層測(cè)厚儀統(tǒng)計(jì)計(jì)算:

 

 

顯示6種統(tǒng)計(jì)值:均值、標(biāo)準(zhǔn)偏差、變異系數(shù)、最大、最小值、讀數(shù)個(gè)數(shù)

立即或稍后顯示統(tǒng)計(jì)值

立即或稍后打印讀數(shù)和統(tǒng)計(jì)值

 

顯示、打印年、月、日、時(shí)、分

用于外設(shè)的計(jì)算機(jī)接口:

 

 

MINIPRINT 微型打印機(jī)接口

RS-232,PC計(jì)算機(jī)接口

連接x-t計(jì)錄儀模擬電壓輸出接口

電解液飽和報(bào)警指示

 

測(cè)量的不確定性:

 

 

5%,在8mm2面積下,經(jīng)校準(zhǔn)

庫(kù)侖鍍層測(cè)厚儀電源:

 

 

110/220V,50/60HZ,10W

測(cè)量范圍:

 

 

*大測(cè)量范圍:0.05-75μm

 

GalvanoTest 庫(kù)侖測(cè)厚儀-標(biāo)準(zhǔn)配置

GalvanoTest 2000標(biāo)準(zhǔn)配置

•  GalvanoTest 主機(jī)

•  連接 MiniPrint 打印機(jī)或電腦的接口

•  連接Y-T記錄儀的數(shù)據(jù)端口

•  標(biāo)準(zhǔn)測(cè)量支架帶電解池和攪拌器噴嘴

•  主機(jī)和測(cè)量支架連接線纜

•  密封墊A (8 mm2)

•  密封墊B (4 mm2)

•  客戶自選3瓶電解液,各100ml(除E12)

•  滴管

•  廢液瓶

•  噴霧瓶

•  橡皮鉛筆

•  吸水紙

•  操作手冊(cè)

 

GalvanoTest 3000標(biāo)準(zhǔn)配置

•  GalvanoTest 主機(jī)

•  連接 MiniPrint 打印機(jī)或電腦的接口

•  連接Y-T記錄儀的數(shù)據(jù)端口

•  標(biāo)準(zhǔn)測(cè)量支架帶循環(huán)泵,含1型內(nèi)電解池

•  主機(jī)和測(cè)量支架連接線纜

•  2個(gè)密封墊B (4 mm2)

•  20個(gè)墊片C (1 mm2) 和2個(gè)直徑1.5mm的密封墊片用密封墊

•  20個(gè)墊片D (0,25 mm2)

•  客戶自選5瓶電解液,各100ml(除E12)

•  廢液瓶

•  噴霧瓶

•  橡皮鉛筆

•  吸水紙

•  操作手冊(cè)

 

GalvanoTest 庫(kù)侖測(cè)厚儀-訂購(gòu)信息

•  GalvanoTest 2000 (含支架,RS-232口,三種電解液,有統(tǒng)計(jì)功能)

•  GalvanoTest 3000 (含循環(huán)泵,支架,RS-232口,5種電解液,18種金屬存儲(chǔ))

•  精密支架 (包含GalvanoTest 2000 的定心裝置)

•  小樣品夾具

•  陰極導(dǎo)線及電解杯 (包含連接線)

•  電解液

庫(kù)侖儀 庫(kù)倫儀 進(jìn)口庫(kù)倫儀 進(jìn)口庫(kù)侖儀

 

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